国产光刻胶产业加速前行，技术突破与标准建立，领军企业一览无余

国产光刻胶产业正在经历技术突破到标准建立的发展阶段，加速前行，目前已有一些企业在光刻胶产业中领跑，展现出强大的技术实力和市场份额，这些企业通过不断创新和研发，推动光刻胶技术的进步，为产业发展做出了重要贡献。

10月27日，光刻胶概念开盘走强，彤程新材（603650.SH）一字涨停，格林达（603931.SH）、万润股份（002643.SZ）随后也封住涨停。

消息面上，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。

重大技术突破

在芯片制造的光刻流程中，“显影”是决定图案成败的核心一步。

光刻胶如同刻画电路的“颜料”，它在显影液中的运动，直接决定电路画得准不准、好不好，进而影响芯片良率。这导致工业界工艺优化长期依赖反复“试错”，成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈之一。

面对这一挑战，北京大学彭海琳教授团队联合清华大学、香港大学的研究人员另辟蹊径，首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体研究并取得突出成效。

研究团队通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，分辨率优于5纳米。

这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为，开发出了显著减少光刻缺陷的产业化方案，有效清除了12英寸晶圆图案表面的光刻胶残留，为提升光刻精度与良率开辟新路径。

在技术研究不断取得突破的同时，建立统一、规范的行业标准是推动光刻胶技术落地应用、实现产业化规模化发展的重要保障。

近日，根据国家标准委网站的信息，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。该标准的制定具有重要的现实意义，不仅能够填补国内在该领域的技术标准空白，更将通过建立统一的测试方法体系，为国内外EUV光刻胶的性能评价提供客观标尺。

迎来发展窗口期

光刻胶是一种光敏感的耐蚀刻薄膜材料，主要由树脂、感光剂、溶剂和添加剂等材料组成，为混合液体，可在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料。按照应用场景可将光刻胶分为半导体集成电路（IC）、FPD（平板显示器）、印制电路板（PCB）三大类。

在全球电子产业协同发展的过程中，中国大陆逐步崛起为全球最大的电子信息产品制造中心。半导体、PCB及面板产业的产能快速扩张，进而推动了上游材料光刻胶市场需求的爆发式增长。据Research And Markets的预测数据，未来几年内，全球光刻胶市场规模预计将从2020年的87亿美元稳步攀升至2026年的120亿美元以上，年均复合增长率约为6%。

目前，全球半导体光刻胶领域主要被日本JSR、TOK、信越化学、住友化学、富士材料，以及美国陶氏化学等头部厂商垄断，他们掌握着全球90%的半导体光刻胶市场。而我国企业量产产品以技术要求相对较低的i线/g线光刻胶为主，国产化还有较大提升空间。

相关公司方面，彤程新材是国内领先的半导体光刻胶生产商，公司不仅是深紫外KrF光刻胶最大量产供应商，也是国内首家TFT-LCD Array光刻胶生产商和最大液晶正性光刻胶本土供应商。2025年上半年，彤程新材主营业务盈利能力增加，推动业绩稳健增长，实现营收16.55亿元，同比增长4.97%；归母净利润为3.51亿元，同比增长12.07%。

扬帆新材（300637.SZ）围绕硫磷基础化学研究，基于巯基化合物核心平台物，成功构建涵盖 907、ITX、BMS、369、379 等多型号的光引发剂产品矩阵，深度绑定医药、农药、染色的领域供应链，战略布局含磷阻燃剂板块，并实现阳离子硫鎓盐系列新产品的研发突破。

今年上半年，扬帆新材业绩明显改善，实现营收4.73亿元，同比增长47.93%；归母净利润为2314万元，同比扭亏为盈。扬帆新材表示，随着下游需求复苏，公司根据市场情况灵活制定定价策略努力提升产品品质满足市场需求，不断巩固公司产品的销量及市场地位，同时加强与客户的良好关系。

强力新材的技术和产品已经覆盖了PCB干膜光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等主要光刻胶种类中的关键原材料品种。该公司研发的光敏性聚酰亚胺（PSPI）应用于半导体先进封装领域，是重布线制程（RDL）的关键材料，同时开发了多款PSPI产品。

从盘面表现看，截至10月27日午盘，晶瑞电材（300655.SZ）涨15.10%，安泰科技（000969.SZ）、万润股份等个股涨停，艾森股份（688720.SH）涨7.69%，联合化学（301209.SZ）涨7.34%。